重點摘要:
- 3D NAND製造商在堆疊層數突破300層之際,正以鉬取代鎢字元線。
- SemiAnalysis預估,到2027年鉬沉積設備市場規模將達10億美元,到2030年再翻倍。
- 科林研發(Lam Research)率先受惠,SK海力士、三星電子與美光領先材料轉換。
重點摘要:

3D NAND快閃記憶體正以鉬取代鎢字元線,隨著堆疊層數突破300層,預計到2027年將開啟一個規模達10億美元的沉積設備市場。
3D NAND快閃記憶體製造商在堆疊層數突破300層之際,正以鉬取代鎢字元線。研究機構SemiAnalysis估計,這項材料轉換到2027年將催生一個規模達10億美元的沉積設備市場。
SemiAnalysis於8月23日在X平台上表示:「鉬不是一項優化——它是300層以上NAND的必要條件。」
3D NAND約在十年前停止了橫向微縮,轉而依靠垂直堆疊來提升儲存密度。一旦層數超過約300層,連接每個記憶體單元的鎢字元線便會遭遇三項物理極限:電阻過高、含氟化學製程造成漏電,以及無法填充超深孔洞。鉬能同時解決這三項問題——電阻更低以實現更快的讀寫速度、不含氟化學物質,以及在深寬比較高的結構中填充效果更佳。
這項轉換讓科林研發(Lam Research)率先取得設備訂單,東京威力科創(Tokyo Electron)緊隨其後,而應用材料(Applied Materials)、ASMI及中國的北方華創則有望在DRAM和邏輯晶片日後採用該材料時受惠。SemiAnalysis預測,鉬沉積設備銷售額將從2027年的逾10億美元,成長至2030年每年約20億美元。
SemiAnalysis將SK海力士置於堆疊競賽的領先地位,其層數達321層,領先三星電子的286層、美光科技(Micron Technology)的276層,以及鎧俠(Kioxia)/閃迪(SanDisk)的218層。邁向3xx至4xx層的跳躍已在進行中,所有主要製造商均已承諾採用鉬製程。
三星是先行者,其搭載鉬字元線的產品自2024年起已進入量產。美光於2025年在科林研發的ALTUS Halo設備上展開大規模生產,成為第二家將該製程商業化的製造商。SK海力士計劃於2026年底前推出採用鉬的375層NAND,這將進一步擴大其在層數競賽中的領先優勢。
SemiAnalysis估計,鉬在NAND總產能中的占比將從2025年的個位數中段百分比,攀升至2027年的約30%,反映業界採用該材料的速度之快。
中國的長江存儲(YMTC)透過其控股實體長江存儲科技控股(Changcun Holdings)急起直追。上海證券交易所已於8月21日受理長江存儲科技控股的科創板IPO申請,計畫募資330億元人民幣(約49億美元),用於產線升級與研發。
長江存儲科技控股於2024年轉虧為盈,並在2025年進一步擴大獲利,全年淨利達142.1億元人民幣(約21億美元),營收為631.8億元人民幣(約94億美元)。2025年第一季淨利達333.8億元人民幣(約50億美元),已超越2025全年數字,毛利率達76.77%。
然而,長江存儲並未出現在SemiAnalysis的300層以上競爭梯隊中,意味著在鉬材料轉換期間,其面臨技術與產能雙重追趕壓力。其2025年營收631.8億元人民幣,落後於三星電子的1.62兆元人民幣、SK海力士的4,721.6億元人民幣以及美光的2,994.8億元人民幣。
對設備供應商而言,僅鉬這一細分市場到2027年就相當於一家中型設備商的全年營收,且隨著DRAM和邏輯晶片跟進,可望在三年內翻倍。科林研發作為美光量產爬坡的既有供應商將率先受惠,而東京威力科創及後續採用者則掌握更廣泛的轉換商機。
對NAND製造商而言,率先完成鉬轉換的廠商將在300層以上產品中獲得性能優勢,進而影響高階儲存市場的市占版圖。關鍵里程碑包括SK海力士於2026年底前實現375層量產、美光在科林研發設備上的產能爬坡,以及三星的先發優勢能否轉化為市場占有率。長江存儲的IPO進展及其鉬材料路線圖也將影響全球NAND競爭格局。
本文僅供參考,不構成投資建議。